Brazilian
Conferences and Brazilian Journals (1990)
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"The Impact of Silicon Substrate Characteristics
on the Qualit of Thin Gate Oxides", C.M. Hasenack, V Congresso da Sociedade
Brasileira de Microeletrônica, Julho/1990.
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"Experimental Study of Lateral Growth of Titanium
Silicide", M.M.Oka e J.W.Swart, V Congresso da Sociedade Brasileira de
Microeletrônica, Julho/1990.
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"The Impact of Silicon Surface Characteristics
in Gate Oxide Breakdown characteristics and its correlation with
SiO void Growth", C.M. HasenacÙe M. Heyns, V Congresso da Sociedade
Brasileira de Microeletrônica, Julho/1990
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"The Impact of Silicon Substrate Characteristics
on The Qualit of Thin Gate Oxides", C.M. Hasenack, V Congresso da Sociedade
Brasileira de Microeletrônica, Julho/1990
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"Use of the Charge Pumping Technique for the
Evaluation of MOSFET Degradation due to Stress in Silicide/Polysilicon
Double Layer", S.G. dos Santos Filho e J.W.Swart, V Congresso da Sociedade
Brasileira de Microeletrônica, Julho/1990.
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"Efeito da Pressão de Argônio
na Deposição de Filmes Finos de Cobalto por Sputtering",
A.L.P.Rotondaro e H.S.Maciel, V Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica,
Julho/1990
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"Estudo da Liga Ti, como Uma Barreira de Difusão
entre Alumínio e TiSi2", R. Furlan, J.Van der Spiegel e J.W.Swart,
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V Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica,
Julho/1990
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"An Analytical Model for The Potential Drop
in The Silicon Substrate of Thin SOI MOSFET'S And Its Influence on The
Threshold Voltage", J.A.Martino, L.Lauwers e J.P.Colinge, V Congresso da
Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1990
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"Corrosão de SiO2 por Plasma de CF4:
Estudo Espectroscópico", M.L.P.da Silva, V Congresso da Sociedade
Brasileira de Microeletrônica, Julho/1990
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"Caracterização de Filmes de
Polímero Formado Sobre o Silício Exposto ao Plasma de CF4/H2",
R.K.Yamamoto, F.R.de Almeida, H.S.Maciel, IX Congresso Brasileiro de Engenharia
e Ciência dos Materiais, Dezembro/1990
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"Otimização da Técnica
de Deposição de Cobalto para Formação de Siliceto",
W.J.Freitas, A.L.P.Rotondaro, J.W.Swart, H.S.Maciel, Revista Brasileira
de Vácuo, vol.9, nº 1, 1990.
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"Obtenção de Contato ôhmico
sobre Junções Rasas em Si Utilizando Siliceto de Ti e TiW
entre Substrato e Al", R.Furlan, J.W.Swart, Anais do 9º CBECIMAT Águas
de São Pedro, Dezembro/1990.
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"Tensões Residuais & Cristalitos:
Definição e Métodos de Medidas", H.G. Riella, L.G.
Martinez, L. Guimarães, N.I. Morimoto, Anais do 9º CBECIMAT,
Águas de São Pedro, Dezembro/1990.
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