Brazilian Conferences and Brazilian Journals (1992)

  1. "Obtenção de Camadas Ultra-Finas de Óxido de Silício por Oxidação Térmica Rápida", S.G. dos Santos Filho e C.M. Hasenack, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  2. "Si/Si02 Interface Asperities: Theirs Effect on Breakdown Characteristics and on Electric Field Distribution Within Thin Gate Oxides", M.C. Lopes e C.M. Hasenack, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  3. "Formação de Siliceto de Titânio sobre Dióxido de Silício por Co-Deposição", M.B.A. Fontes, J.C.A. Quacchia e R. Furlan, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  4. "Estudo da Influência do Ambiente no Processo de Silicetação do Titânio Realizado em Fornos de RTP", Y.P.V. Costa e C.M. Hasenack, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  5. "Actinometry and Its Application on Polysilicon Etching in a Magneticall Confined Reactor", P.B. Verdonck, P. De Geyter e J.W. Swart, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  6. "Corrosão de Trincheiras em Silício com Plasma de CBrF3", R. Yamamoto e H.S. Maciel, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  7. "Estudo Comparativo de Estruturas de Fonte e Dreno de Transistores MOS Submicrométricos", J.J. Mafra Jr. e J.A. Martino, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  8. "Construção e Desenvolvimento de Um Equipamento Integrado para a Deposição de Óxidos de Silício", N.I. Morimoto, A.R. Cardoso, M.L.P. Silva, N.Y. Shibata, A.F. Escote, W.T. MatsUmurae J.W. Swart, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  9. "Construção de Um Gerador de Microondas para Aplicações em Microeletrônica", A.R. Cardoso e J.T. Senise, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  10. "Construção e Caracterização Inicial de Um Medidor de Rugosidade Química de Superfícies de Silício Empregando Espalhamento de Luz", S.G. dos Santos e C.M. Hasenack, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  11. "Difusão de Ar a Partir do TiSi2 com Estruturas C49 e C54", M.M. Oka e R. Furlan, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  12. "Estudo da Influência da Adição de SF6 ao Plasma de CBrF3 na Corrosão de Silício", R.K. Yamamoto e H.S. Maciel, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  13. "Estruturas de Porta de Transistores MOS", C. Pellegini Jr. e J.A. Martino, VII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Julho/1992.
  14. “Obtenção de um processo de litografia de multicamadas”, R. D. Mansano, P. B. Verdonck e Homero S. Maciel, Revista bras. de Aplicação de Vácuo, vol. 11, n? 2, 1992
  15. "Desenvolvimento de Um Sistema Integrado Multicâmara para a Deposição de SiO2 Dopado ou não com Boro e/ou Fósforo por R/PRCVD", N.I.Morimoto, A.R. Cardoso, M.L.P. Silva, N.Y. Shibata, A.T. Escote, W.T. Matsumura, E. Oliveira e J.W. Swart, XIII CBRAVIC 1992.
  16. "Algumas Aplicações da Espectroscopia de Massa por Transformada de Fourier", P.C.Isolani, M.C. Kida-Tinine, H.V. Linnert, J.J. Menegon, J.M. Riveros, P. Tiedmann e R.M. Franzin, XIII CBRAVIC 1992.
  17. "Projeto e Construção de Um Equipamento para Corrosão de Alumínio por Plasma", R.M. Franzin, P. Verdonck, R. Mansano, N. Ordenez·e M.B. Pisani., XIII CBRAVIC 1992.
  18. "Determinação de Flúor Atômico em Plasmas de SF6 + O2 por Actinometria", E.R. de Oliveira, XIII CBRAVIC 1992.
  19. "Caracterização do Processo de Corrosão por Plasma de Dióxido de Silício Utilizando Experimentos Fatoriais", C.T. Akamine e H.S. Maciel, XIII CBRAVIC 1992.
  20. "Estudo do Comparativo da Corrosão de Silício com Adição de SF6 e O2 ao Plasma de CBrF3", R.K. Yamamoto e H.S. Maciel, XIII CBRAVIC 1992.
  21. "Chemical Etching of Tungsten with NF3 - O2 Plasmas", P. Verdonck, G. Brausseur e J. Swart, XIII CBRAVIC 1992.
  22. "Silicon Surface Roughening Induced by CBrF3 During the Reactive Ion Etching", R.K. Yamamoto, M.C.V. Lopes, C.T. Akamine, S.G. Santos Fº, C.M. Hasenack, X CBECIMAT, Dezembro/1992
  23. "Estudos de Filmes Finos de Óxido de Silicio Depositados", M.L.P. Silva, A.R. Cardoso, N.I. Morimoto, A.T.Escote, N.Y. Shibata, W.T. Matsumara, X CBECIMAT, Dezembro/1992.


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