Brazilian
Conferences and Brazilian Journals (1993)
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"Simulação Numérica dos
Efeitos Elétricos Causados por Imperfeições Estruturais
em Capacitores MOS", M.C.V. Lopes, C.M. Hasenack, V. Baranauskas, VIII
Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"The Cleaning of Silicon Wafers with hot Isopropilic
Alcohol and distilled water as final steps", S.G. dos Santos Filho, C.M.
Hasenack, P. Mertens, VIII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica,
Setembro/1993.
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"Medida da Rugosidade Superficial de Lâminas
de Silício Empregando a Técnica de Espalhamento Elástico
de Luz He-Ne", J.C. de Souza Filho, S.G. dos Santos Filho, C.M. Hasenack,
VIII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"Deposição e Caracterização
de Silício Policristalino Depositado por LPCVD a partir da Silana",
A.G. Pedrine, C.M. Hasenack, M.C.V. Lopes, VIII Congresso da Sociedade
Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"SOI Mosfet Modo Acumulação
em 77 K: Impacto dos Efeitos Transitórios e Determinação
da Densidade de Armadilhas de Interface", J.A. Martino, E. Simoen, A.L.P.
Rotondaro, U. Magnusson, C. Clayes, VIII Congresso da Sociedade Brasileira
de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"Silicetos de Titânio e de Cobalto como
Fonte de Arsênio", M.M. Oka, R. Furlan, VIII Congresso da Sociedade
Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"Estudo da Influência da Taxa de Subida
de Temperatura sobre a Rugosidade do Siliceto de Titânio Formado
por RTP", A.A.M. Laganá, M.C. Valente, A.G. Pedrine, J.C. de Souza
Filho, J.W. Swart, VIII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica,
Setembro/1993.
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"Formação do Siliceto de Titânio
em duas Etapas em Ambiente de Nitrogênio", A.A.M. Laganá,
A.N.R. da Silva, J.W. Swart, VIII Congresso da Sociedade Brasileira de
Microeletrônica, Setembro/1993.
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"Estudo da Formação do Siliceto
de Titânio sobre Silício Policristalino", A.N.R. da Silva,
R. Furlan, VIII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica,
Setembro/1993.
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"Determinação da Taxa de Deposição
com Magnetron Sputtering Através de Parâmetros do Plasma",
M.B.A. Fontes, R.K. Yamamoto, H.S. Maciel, J.C.A. Quacchia, VIII Congresso
da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"Determinação da relação
entre as variáveis de um processo fotolitográfico e as dimensões
definidas em um filme de fotoresiste positivo.", C.M.de Assis Silva, I.C.
Braz, VIII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica,
Setembro/1993.
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"Identificação de parametros
de processo de resiste usando FTIR"., R.D. Mansano, N.T. Yunaka, H.S. Maciel,
VIII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"Detecção do ponto final da
corrosão por plasma usando espectrometria de emissão para
litografia de tres camadas"., R.D. Mansano, N.T. Yunaka, H.S. Maciel, VIII
Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"Etching of tungsten in a magnetically confined
plasma reactor : general trends and etch rate limiting mechanisms", P.
Verdonck, P. Degeyter, J.W. Swart, VIII Congresso da Sociedade Brasileira
de Microeletrônica, Setembro/1993.
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"SAL601-ER7 as a negative tone resist for
mask making", A.C. Seabra, R. Jonckheere, L. Van den hove, VIII Congresso
da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, Setembro/1993.
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