ceviana: web site acadêmico

Existem diferentes ramificaçoes em torno do principal objetivo do grupo, que é a obtenção, caracterização e aplicação de filmes finos de óxido de silício (modificados ou não) através da técnica PECVD.

Entre os trabalhos atualmente em curso, pode-se citar:

Caracterização elétrica de filmes de óxido de silício;
Desenvolvimento de uma tecnologia TFT-CMOS à baixa temperatura, com a utilizaçoão destes filmes de óxido de silício depositados como isolante de porta;
Obtenção de filmes de silício modificados para aplicação em sensores químicos;
entre outros.

Retornar

Contate-me: ceviana.

\| Português \| English \| Français \|

Veja também: >> \| Mapa do Site \| Palavras Chave \| Atividades em Andamento \|

Última publicação: Abril/2001 - JNRDM em Strasbourg/França.